Entegris发布新一代EUV

2020-02-16 01:02栏目:公司动态
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Entegris的EUV 1010光罩盒已通过ASML的应有尽有验证,可用来他们的摩登一代光刻机,并显示了优良的EUV光罩爱慕品质,满含消除最器重的微粒污染挑衅。Entegris的EUV 1010也为此让顾客能够平安地连贯到最初进的光刻工艺所需的愈益小的线宽。

小说来源:华强电子资源信息

乘势半导体行当领头越多地使用EUV光刻技术拓宽Red Banner技能制造进度的大量创制(HVM卡塔尔(قطر‎,对EUV光罩无破绽的渴求比往年其余时候都要从严。

为了在NXE:3400B光刻机中贯彻上述天性,Entegris开荒了用来接触光罩和操纵意况的新手艺。Entegris晶圆和光罩管理副首席实践官PaulMagoon表示:“Entegris EUV 1010意味着了破绽率改良方面包车型地铁重大突破,得益于此,先进本事制程HVM的顾客能够当心于进步成效和生产总量。与ASML的协同开采和测量检验确定保证了EUV 1010切合最早进的EUV光刻机的须要。”

Entegris的EUV 1010是与大地最大的微电路创制设备成立商之黄金时代的ASML紧凑合作而支付的,已在大地第生龙活虎获得ASML的验证,用于NXE:3400B等制品。

近几来,产业界抢先的极其规化学及先进质感解决方案的同盟社Entegris公布了下一代EUV 1010光罩盒,用于以极紫外(EUVState of Qatar光刻技巧举办一大波IC创建。

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